具有复合保护层的半导体芯片及其制备方法

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正文
推荐专利
具有复合保护层的半导体芯片及其制备方法
申请号:CN202510701455
申请日期:2025-05-28
公开号:CN120786921A
公开日期:2025-10-14
类型:发明专利
摘要
本公开公开了一种具有复合保护层的半导体芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。该半导体芯片,包括依次叠设的一次外延层、复合保护层和二次外延层;复合保护层包括AlON层、SiN层和TiN层,AlON层、SiN层和TiN层沿外延生长方向依次叠设;二次外延层为AlGaN层。本公开实施例能够有效的避免二次沉积外延层时的高温,导致Al原子向外扩散。
技术关键词
半导体芯片 外延 低温等离子体 栅极 气氛 脉冲
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