光学邻近修正方法

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正文
推荐专利
光学邻近修正方法
申请号:CN202510716425
申请日期:2025-05-29
公开号:CN120255261A
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
一种光学邻近修正方法,包括:提供初始版图,所述初始版图包括若干主图形;在所述主图形的外围生成若干第一辅助图形,生成中间版图;基于所述中间版图获取图形密度;根据所述图形密度,采用考虑图形密度的光学邻近修正模型进行光学邻近修正,生成修正版图。由于最终形成的曝光版图中存在所述第一辅助图形,因此在进行所述光学邻近修正之前添加所述第一辅助图形,并在计算所述图形密度时同时考虑到所述主图形和所述第一辅助图形,使得计算获取的所述图形密度与曝光版图中的真实图形密度趋于一致,进而在采用考虑图形密度的光学邻近修正模型能够调用更加准确的图形密度进行光学邻近修正,以此提升光学邻近修正的精度。
技术关键词
光学邻近修正方法 光学邻近修正模型 版图 密度 光刻胶 标记 分辨率 掩模 冗余 精度
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