一种基于敏感性分析的光谱库优化方法及系统

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一种基于敏感性分析的光谱库优化方法及系统
申请号:CN202510717422
申请日期:2025-05-30
公开号:CN120670424A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于敏感性分析的光谱库优化方法及系统,属于半导体光学测量领域,该优化方法包括:获取模拟光谱;基于模拟光谱对预设建库参数进行敏感度分析,获取每个建库参数的敏感性;获取每个建库参数的参数取值范围,并基于每个建库参数的敏感性及每个建库参数的参数取值范围,获取每个建库参数的划分权重;基于每个建库参数的划分权重计算每个建库参数的网格划分数量;根据每个建库参数的网格划分数量获取网格点,每个网格点对应一组几何参数,得到参数网;通过傅里叶模态法模拟参数网中每个网格点对应的几何参数,生成优化光谱库。该优化方法得到的光谱库样本分布均衡、偏差小,提高了神经网络模型的精度和稳定性。
技术关键词
参数 网格 分析模块 神经网络模型 波长 索引 半导体 基础 偏差 精度
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