一种致密氧化钇涂层的喷涂工艺

本发明涉及涂层制备技术领域，尤其是涉及一种致密氧化钇涂层的喷涂工艺，其包括预处理、粉末活化、基体表面改性、熔射喷涂、冷却固化、去遮蔽处理及后清洗步骤。通过低温等离子体活化氧化钇粉末、优化喷砂参数及超音速火焰喷涂工艺，显著降低涂层孔隙率至1.5％以下，并提升硬度至500HV0.3。采用分段式冷却方式减少内应力，结合基于粒子沉积动力学的参数优化算法，实现涂层性能和经济性的平衡。本申请能够满足高端半导体制造领域对高性能防护涂层的需求，解决了传统工艺孔隙率偏高的问题。