一种半导体制造通用炉室气体环境安全性的判断方法

本申请公开了一种半导体制造通用炉室气体环境安全性的判断方法，具体步骤如下：步骤1：根据目标炉室的工艺设计特性参数、安全状态判定器中对于安全的定义以及气体状态推断引擎中的算法模型；步骤2：实时获取目标炉室的特性参数；步骤3：通过气体状态推断引擎对步骤2获取的工艺数据进行分析，并将分析结果发送至安全状态判定器；步骤4：安全状态判定器将步骤3输出的结果与所述安全的定义进行比较，得出该目标炉室处于安全状态或者不安全状态的判断结果；步骤5：将步骤4得出的判断结果发送至控制系统，并根据判断结果进行下一步操作。