光刻胶消耗量预测方法及装置、存储介质、设备

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光刻胶消耗量预测方法及装置、存储介质、设备
申请号:CN202510766179
申请日期:2025-06-09
公开号:CN120406056A
公开日期:2025-08-01
类型:发明专利
摘要
一种光刻胶消耗量预测方法及装置、存储介质、设备。所述方法包括:获取晶圆在待预测时长内投片数量;利用预设多项式回归模型预测所述待预测时长内光刻胶消耗量,并输出预测结果;所述预设多项式回归模型的拟合优度大于线性回归模型。采用本发明的方案,可以提高光刻胶消耗量预测的准确性。
技术关键词
光刻胶 多项式 线性回归模型 处理器 表达式 预测装置 晶圆 可读存储介质 存储器 电子设备 参数 计算机 数据
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