摘要
本申请公开了一种改善AlGaInP红光Micro LED芯片散热性能的方法,包括如下步骤:S1,外延结构制备:衬底与缓冲层处理、刻蚀阻挡层与欧姆接触层生长、功能层堆叠外延;S2,硅基衬底图形化:介质层与金属结构制备;S3,金刚石欧姆接触层集成:p型导电金刚石膜层加工、金属反射与键合;S4,衬底去除与n型结构形成:衬底剥离与n型接触;S5,后段工艺集成:电极与光学结构制备;本申请的芯片散热性能显著提升;串联电阻降低30%‑50%;p/n型金刚石欧姆接触层电阻率较ITO降低1‑2个数量级;避免了GaAs材料吸光与金属遮光,结合微透镜阵列,红光透过率从75%提升至90%以上;兼容现有MOCVD、CVD及光刻工艺,可实现2‑12寸晶圆规模化生产,降低制造成本。
技术关键词
MicroLED芯片
导电金刚石
欧姆接触层
刻蚀阻挡层
衬底图形化
n型超晶格结构
外延结构
量子阱结构
金属反射层
微透镜阵列
金属掩膜
清洗硅晶圆
缓冲层
光学结构
GaAs衬底
金属结构
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