一种用于目检机的晶片表面光滑度检测方法及系统

AITNT
正文
推荐专利
一种用于目检机的晶片表面光滑度检测方法及系统
申请号:CN202510783893
申请日期:2025-06-12
公开号:CN120318227B
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明涉及图像数据处理技术领域,尤其涉及一种用于目检机的晶片表面光滑度检测方法及系统。方法包括:获取晶片表面图像的灰度图像;将灰度图像等分为若干个分块;确定分块的第一合格系数;获取分块内的边缘像素点;确定分块的第二合格系数;利用Naive层次聚类算法对灰度图像进行聚类,以识别灰度图像中的光滑区域,实现晶片表面的光滑度检测。本发明通过引入第一合格系数和第二合格系数,综合考虑了分块内的多个因素,能够更全面、细致地刻画分块的特征,从而有效区分不光滑区域和刻蚀纹理区域,减少了刻蚀纹理区域对不光滑区域判断的干扰,提高了聚类的准确性,从而更准确地识别不光滑区域,保证晶片表面光滑度检测的精度。
技术关键词
分块 层次聚类算法 像素点 光滑度检测系统 计算机程序指令 图像数据处理技术 Canny算子 信息熵 加权平均法 纹理 存储器 处理器 数值 邻域 矩形 幅值 符号 精度
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号