一种提高半球谐振子内壁薄膜均匀性的镀膜工艺优化方法及镀膜设备

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一种提高半球谐振子内壁薄膜均匀性的镀膜工艺优化方法及镀膜设备
申请号:CN202510793297
申请日期:2025-06-13
公开号:CN120850640A
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
一种提高半球谐振子内壁薄膜均匀性的镀膜工艺优化方法,包括步骤:建立半球谐振子镀膜过程的有限元仿真模型,获取多角度沉积参数;将工艺离散化为时间步序列,建立累积膜厚状态空间;构建基于近端策略优化(PPO)的强化学习框架,设计状态空间为当前累积薄膜厚度及分布,动作空间为从预定义沉积角度中选择最优角度;通过神经网络生成动作策略,迭代优化至目标厚度;定义奖励函数,以最小化膜厚均匀性为目标;动态调整沉积角度选择策略;筛选出膜厚均匀性值最小的最优策略,并输出对应沉积角度及其时间分配方案。本发明通过强化学习动态优化沉积角度与时间分配,显著降低薄膜厚度的非均匀性,适用于不同尺寸谐振子的镀膜工艺优化。
技术关键词
半球谐振子 镀膜工艺 强化学习框架 薄膜 生成动作 策略 镀膜设备 定义 仿真模型 动态 多角度 数据 算法 序列 参数 尺寸
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