一种基于参数逆溯拟构的薄膜厚度原子级求解方法

本发明提供了一种基于参数逆溯拟构的薄膜厚度原子级求解方法，属于薄膜厚度测量技术领域。包括：采集待测薄膜的实际反射光谱数据；构建包含薄膜材料光学常数和待求厚度的反射光谱理论模型；根据待测薄膜厚度求解精度需求，设定求解阈值；确定待测薄膜材料的光学常数并向反射光谱理论模型输入厚度估计值，生成与光学常数和厚度估计值对应的理论反射光谱；通过局部光谱比对实际反射光谱数据和理论反射光谱的均方差和迭代优化，确定待测薄膜厚度。本发明通过逆向参数溯源与闭环反馈优化，仅需局部光谱数据即可实现原子级精度的薄膜厚度测量，求解效率高、抗干扰性强，适用于光学器件制造、光学镀膜、半导体制造等需要原子级精度控制的工业检测场景。