一种用于半导体构件的自适应定位裁切方法及系统

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一种用于半导体构件的自适应定位裁切方法及系统
申请号:CN202510802477
申请日期:2025-06-16
公开号:CN120637258A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于半导体构件的自适应定位裁切方法及系统,涉及半导体制造技术领域,该方法包括:连接视觉传感器,获得图像信息;对图像信息进行构件识别分析,确定构件拼接关系,并解析裁切基准;进行裁切设备定位对齐,进行裁切路径及裁切参数分析,获得裁切预策略;根据所述裁切预策略进行跟踪预测,进行裁切预策略自适应重构,根据重构裁切策略进行裁切修正控制。本发明解决了现有技术中半导体构件裁切过程中因定位不准,偏差修正不及时导致的裁切精度低和效率差的技术问题,达到了实现半导体构件位置与姿态信息的实时采集及图像分析,通过实时跟踪偏差自适应重构策略,提高了裁切精度与效率的技术效果。
技术关键词
半导体构件 裁切方法 裁切设备 视觉传感器 参数 坐标 基准 多芯片 定位裁切系统 偏差 关系 图像 异常信息 重构策略 分区结构 特征点
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