摘要
本发明涉及等离子应用技术领域,公开了一种等离子体组成控制方法,包括以下步骤:设定电流变化速率的范围并调节电源输出电流的变化速率;基于电流变化速率与等离子体反应之间的动态响应模型设计控制算法;配置反馈控制系统,基于实时监测的等离子体状态;判断的过程中当进行阻塞时,通过对各项工艺参数进行检测,来对等离子体状态进行调节,调节过程中根据检测结果,优化电流变化速率与各项工艺参数。通过引入电流变化速率即电流加速度作为关键控制参数,实现电流对等离子体粒子密度和电荷分布的调控,得到相比传统恒流或恒压控制更高效、更可控的等离子体组成调节效果,提高材料处理的精度和一致性。
技术关键词
反馈控制系统
调节电源输出电流
等离子体处理工艺
速率
动态响应模型
X射线衍射设备
关键控制参数
等离子体工艺
PID控制算法
实时数据
光谱仪
阶梯式
粒子
曲线
加速度
密度
恒压