一种芯片光刻胶清洗液及其制备方法与应用

本发明提供一种芯片光刻胶清洗液及其制备方法与应用，所述芯片光刻胶清洗液包括重量配比如下的各组分：季铵氢氧化物1‑5份；链烷醇胺1‑15份；亚砜50‑90份；缓蚀剂0.5‑5份；所述缓蚀剂为苯基磷酸酯衍生物和氟化树枝状聚合物的混合物。本发明还公开了芯片光刻胶清洗液的制备方法及其在清洗芯片光刻胶领域的应用。本发明芯片光刻胶清洗液仅通过纯浸泡工艺即可实现高效清洗，无需依赖超声波辅助，且对芯片几乎无腐蚀。本发明芯片光刻胶清洗液在光刻胶清洗领域具有良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。