半导体设计版图的设计规则检查方法、设备、介质与产品

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半导体设计版图的设计规则检查方法、设备、介质与产品
申请号:CN202510875854
申请日期:2025-06-26
公开号:CN120781785A
公开日期:2025-10-14
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种半导体设计版图的设计规则检查方法、设备、介质与产品。其中半导体设计版图的设计规则检查方法包括:获取半导体设计版图中设计图形的个体包围盒;使用预设网格对半导体设计版图进行划分,预设网格中的每个单元格配置有相应的标识;根据个体包围盒的顶点坐标计算得到与其相交的一个或多个单元格;获取单元格的标识及与单元格相交的个体包围盒的数据;以及为每个单元格分配一个线程,每个线程用于读取自己所属单元格内的数据,并进行独立的相交计算,得到个体包围盒的相交数据。本发明的方案,能够提供一种并行的包围盒相交检索算法,在保证正确性的同时加快计算速度;充分利用GPU的高算力,使DRC更加高效。
技术关键词
设计规则检查 版图 半导体 数据 网格 标识 顶点 处理器 坐标 检索算法 计算机程序产品 拷贝 计算机设备 内存 可读存储介质 存储器 核心
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