基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法

AITNT
正文
推荐专利
基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法
申请号:CN202510883836
申请日期:2025-06-27
公开号:CN120758978A
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本申请公开了基于多模态光电子成像的晶体生长均匀性动态监测方法,涉及晶体监测技术领域,包括集成多种光电子成像方法对晶体生长过程进行监测,得到多模态成像数据;基于深度学习模型对多模态成像数据进行数据融合分析,计算均匀性指数,生成热力图,识别非均匀性区域,调节非均匀性区域的生长参数,计算不均匀生长率,转移判定为不合格的晶体样品,实现了联用多种光电子成像方法,对晶体表面化学成分与晶体结构的动态关联分析,克服单一模态原位表征技术无法全面反映晶体表面化学成分与晶体结构的协同演化的局限性,解决了无法全面反映晶体生长的动态协同数据,实现了全面对晶体生长均匀性动态监测的技术效果。
技术关键词
动态监测方法 多模态 生成热力图 晶体 轻量化卷积神经网络 成像方法 深度学习模型 拉曼光谱方法 指数 数据 X射线衍射方法 红外光谱方法 动态关联分析 动态监测装置 参数调节模块 扫描电子显微镜 图像分割算法 平滑技术
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号