一种形貌参数的确定方法、装置、设备和介质

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一种形貌参数的确定方法、装置、设备和介质
申请号:CN202510886122
申请日期:2025-06-27
公开号:CN120784177A
公开日期:2025-10-14
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种形貌参数的确定方法、装置、设备和介质,确定高深宽比纳米结构对应的参数化模型,参数化模型用于表示高深宽比纳米结构的形貌参数与高深宽比纳米结构的高度之间的函数关系,参数化模型包括多个基函数,以及每个基函数对应的基函数系数;对参数化模型进行光学特性仿真,得到高深宽比纳米结构的理论信号;对高深宽比纳米结构进行光学特性测量,得到高深宽比纳米结构的实测信号;基于理论信号和实测信号之间的差异,以差异为优化目标,通过优化算法对参数化模型中的基函数系数进行优化,直至差异达到预设状态,得到优化后的参数化模型对应的形貌参数。保障了表征的形貌参数具有较高的测量精度,也大幅提高了优化过程中的收敛效率。
技术关键词
高深宽比 纳米结构 参数 小角X射线散射 信号 理论 粒子群优化算法 计算机设备 存储程序代码 可读存储介质 存储计算机程序 多项式 遗传算法 处理器 关系 存储器 样条
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