摘要
本发明提供了一种IGBT晶圆结构、用于检测IGBT晶圆结构的方法、芯片,所述方法包括:提供背面减薄后的IGBT晶圆,IGBT晶圆的正面键合有临时载片,IGBT晶圆包括位于中心位置的有效区、位于边缘位置且环绕有效区的无效区;对IGBT晶圆的背面注入第一离子,并对有效区的第一离子执行激光退火,以在有效区形成集电区,及使无效区的第一离子未激活;移除IGBT晶圆的临时载片,暴露IGBT晶圆正面的发射极;利用IGBT晶圆的集电区及发射极进行反偏测试,并获取反偏测试的漏电数据以判断IGBT晶圆的背面是否存在电性异常;对IGBT晶圆执行背面金属化工艺。本申请可简便、高效且及时地监控IGBT晶圆背面的电性异常。
技术关键词
背面金属化工艺
截止环结构
离子
场终止层
掺杂区
导电
正面
炉管
电压
芯片
数据
漏电流
曲线
栅极
电阻