基于传感器调控加工姿态的磁流变抛光设备及方法

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基于传感器调控加工姿态的磁流变抛光设备及方法
申请号:CN202510900300
申请日期:2025-07-01
公开号:CN120395562B
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学加工技术领域,尤其涉及一种基于传感器调控加工姿态的磁流变抛光设备及方法,设备包括激光跟踪仪、控制单元、机器人、磁流变加工模块和传感器模块;磁流变加工模块设置在机器人的末端,机器人带动磁流变加工模块对光学元件进行加工;传感器模块设置在磁流变加工模块上;激光跟踪仪配合靶球测量传感器模块与磁流变加工模块中抛光轮的工作点的空间坐标;方法中通过激光跟踪仪和传感器模块配合测量加工过程中机器人的位姿和磁流变加工模块的位置实时变化,对机器人的位姿和磁流变加工模块的位置进行实时调控,进而实现光学元件的去除函数的实时恒定控制。
技术关键词
传感器模块 抛光轮 磁流变 流变抛光设备 激光跟踪仪 坐标 抛光方法 光学元件 机器人位姿 工作点 关系 理论 直线 轨迹 支撑固定架 姿态调控 控制单元
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