基于激光跟踪仪感知的磁流变抛光系统及其抛光方法

本发明涉及磁流变抛光领域，尤其涉及一种基于激光跟踪仪感知的磁流变抛光系统及其抛光方法，通过激光跟踪仪测量磁流变抛光系统在加工过程中位姿的实时变化，利用作动器输出位移调节或液体泵高度调节或喷嘴位置调节实现去除函数的实时恒定控制；或是计算各个抛光轨迹点的抛光间隙所对应的去除函数，并作为下一次加工的加工参数，使得每个抛光轨迹点的去除函数变化与实际抛光间隙变化导致的去除函数相符。本发明无需对测量设备进行标定，不受磁流变抛光系统重量、设备自身运行精度、运行速度、姿态以及其他因素的影响，在光学抛光过程中可以实时测量出抛光系统位姿变化，直观反映出抛光系统的位姿误差，具有设备成本低、测量精度高的优点。