光栅耦合器及其制备方法

本申请涉及光电子通信技术领域，公开了一种光栅耦合器及其制备方法，其中，光栅耦合器包括：衬底层；高折射率介质层，设于衬底层上；埋底介质层，设于衬底层与高折射率介质层之间；低折射率结构层，设于高折射率介质层上，低折射率结构层由图案化的低折射率材料构成，用于耦合垂直入射的空间光，以使空间光垂直耦入至高折射率介质层中进行模式转换和横向传输；光栅耦合器的制备方法用于制作光栅耦合器。本申请通过低折射率结构加高折射率介质的设计，只需要将高折射率介质上的低折射率材料图案化，无需对高折射率介质进行复杂的加工，即可获得空间光向导波模式的转换，减小了器件因为工程制备所带来的散射损耗。