一种梯度校准的对抗纹理生成方法、装置、设备及存储介质

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正文
推荐专利
一种梯度校准的对抗纹理生成方法、装置、设备及存储介质
申请号:CN202510910665
申请日期:2025-07-02
公开号:CN120931797A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本申请涉及物理对抗迷彩的技术领域,尤其涉及一种梯度校准的对抗纹理生成方法、装置、设备及存储介质。包括:获取网格模型和多个视角参数;基于当前视角参数对网格模型进行渲染,生成纹理坐标映射和前景掩膜;基于纹理坐标映射采样待优化纹理图像得到目标区域图像,通过前景掩膜合成输入模拟图像;通过目标检测模型计算总损失值,并得到初始梯度;基于初始梯度划分优化纹理图像并执行梯度校准;按各视角的总损失值升序排序,对所有梯度执行正交化以去除冗余梯度分量,生成融合梯度;基于融合梯度更新待优化纹理图像,重复执行直至满足收敛条件,输出对抗纹理图像。本申请可以在多视角、多尺度条件下提升攻击纹理的稳定性和有效性。
技术关键词
纹理生成方法 物体表面深度值 视角 校准 图像 像素点 冗余 掩膜 纹理生成装置 参数 坐标 三维网格模型 掩模 模块 电子设备 指令
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