摘要
本发明公开了一种五管OTA总剂量效应建模仿真方法,包括:步骤1,用130nm PDSOI和Cadence EDA搭建五管OTA电路并得到输入对管、电流镜管的静态工作点信息及总剂量辐照前转移曲线;步骤2,提取BSIMSOI V4.2的参数,用sde进行3D建模;步骤3,用Sdevice对3D模型校准后添加辐照模型,仿真得到总剂量辐照后转移曲线;步骤4,修调BSIMSOI V4.2,用Spectre得到总剂量辐照后转移曲线,进行辐照后转移曲线拟合;步骤5,重复步骤4,直至曲线拟合收敛;步骤6,用Spectre得到总剂量效应影响结果。本发明解决了TCAD进行电路级总剂量辐照仿真时间长,收敛难的问题。
技术关键词
建模仿真方法
静态工作点
仿真软件
电压
曲线
电流
总剂量效应
仿真器
衬底掺杂浓度
电路
载流子迁移率
参数
模型校准
栅氧层
误差
硅膜
多晶硅
代表