一种五管OTA总剂量效应建模仿真方法

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一种五管OTA总剂量效应建模仿真方法
申请号:CN202510911299
申请日期:2025-07-02
公开号:CN120633557A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种五管OTA总剂量效应建模仿真方法,包括:步骤1,用130nm PDSOI和Cadence EDA搭建五管OTA电路并得到输入对管、电流镜管的静态工作点信息及总剂量辐照前转移曲线;步骤2,提取BSIMSOI V4.2的参数,用sde进行3D建模;步骤3,用Sdevice对3D模型校准后添加辐照模型,仿真得到总剂量辐照后转移曲线;步骤4,修调BSIMSOI V4.2,用Spectre得到总剂量辐照后转移曲线,进行辐照后转移曲线拟合;步骤5,重复步骤4,直至曲线拟合收敛;步骤6,用Spectre得到总剂量效应影响结果。本发明解决了TCAD进行电路级总剂量辐照仿真时间长,收敛难的问题。
技术关键词
建模仿真方法 静态工作点 仿真软件 电压 曲线 电流 总剂量效应 仿真器 衬底掺杂浓度 电路 载流子迁移率 参数 模型校准 栅氧层 误差 硅膜 多晶硅 代表
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