一种基于改进粒子群优化算法的光刻掩膜优化方法

本发明公开了一种基于改进粒子群优化算法的光刻掩膜优化方法，包括：获取光刻掩模图像和目标图像；对所述光刻掩模图像进行霍普金斯光刻仿真，获取仿真图像；计算所述仿真图像和目标图像的偏差，获取图像偏差；基于所述图像偏差，利用改进的粒子群优化法优化对光刻掩模图像进行优化，获取最优掩模，其中，在所述粒子群优化法中引入速度暂停策略，划分双种群并添加交叉变异机制获得所述改进的群优化法。本发明引入速度暂停策略，为粒子的速度更新提供了新的选择，极大提升了算法摆脱早熟收敛的能力。通过划分两个子群，并在第二子群添加交叉变异操作，确保了种群的多样性，显著增强了算法的全局寻优能力。