一种基于生成对抗网络的激光直写邻近效应修正方法

本发明涉及微纳制造技术领域，具体为一种基于生成对抗网络的激光直写邻近效应修正方法。该方法包括：首先基于生成对抗网络构建激光直写反演光刻模型，改进生成器结构；接着通过基于边缘的激光直写光学邻近效应修正方法准备数据集，每对目标版图和优化版图进行逆时针旋转扩充配对数据；随后选择合适损失函数与Adam优化器，在特定环境下按设定参数训练模型，使其收敛；之后用训练好的模型快速生成优化版图；本发明实现了基于生成对抗网络的激光直写邻近效应修正，解决了激光直写的邻近效应修正计算，提供一种能够快速、高精度优化激光直写光刻版图的方法，在保证修正精度的同时提高大规模版图优化的效率。