一种用于大口径光学元件的抛光系统

本发明公开了一种用于大口径光学元件的抛光系统，涉及光学元件加工技术领域，包括控制器、底座、支撑结构、驱动装置、抛光头组件和夹持装置；在底座的上表面安装两组平行的支撑结构；在每组支撑结构上安装有一组X轴方向的驱动装置，并在两组X轴方向的驱动装置上安装一组垂直于支撑结构的Y轴方向的驱动装置，在Y轴方向的驱动装置上安装一组垂直于底座的Z轴方向的驱动装置；抛光头组件安装在Z轴方向的驱动装置上；夹持装置安装底座的上表面，位于抛光头组件下方；控制器连接驱动装置和抛光头组件。通过控制器精确控制驱动装置和抛光头组件，进行抛光压力的自适应调节，提高元件表面加工质量。