一种分布式反馈激光器及其制备方法、激光芯片

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一种分布式反馈激光器及其制备方法、激光芯片
申请号:CN202510925793
申请日期:2025-07-07
公开号:CN120432992B
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
本申请涉及激光器制备技术领域,并提供一种分布式反馈激光器及其制备方法、激光芯片。分布式反馈激光器的制备方法包括:提供衬底;在衬底依次生长n型掺杂层、p型单独限制层和p+/n+隧道结;刻蚀p+/n+隧道结,形成多个光栅;在光栅上依次生长n型包覆层、未掺杂活性层和p型包覆层;分别在衬底和p型包覆层上生长第一电极和第二电极;进行退火处理。该制备方法中,利用刻蚀p+/n+隧道结的方法,可以实现低温环境下形成多个间隔分布的光栅,并采用n型包覆层覆盖光栅,形成微电流注入区,该光栅可以实现多种出光方式中图案的排布,实现各方向出光,以满足分布式反馈激光器的不同出光特性的需求。
技术关键词
分布式反馈激光器 光栅 包覆层 隧道 衬底 图形化掩膜层 电极 出光方式 芯片 电路 图案 电流
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