基于掩膜的晶圆缺陷分类系统及方法

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基于掩膜的晶圆缺陷分类系统及方法
申请号:CN202510926277
申请日期:2025-07-07
公开号:CN120431093B
公开日期:2025-09-16
类型:发明专利
摘要
本发明公开了基于掩膜的晶圆缺陷分类系统及方法,涉及晶圆缺陷分类技术领域,将每个缺陷区域的像素赋予对应的类别序号后形成标签图像,通过添加1x1卷积层将四通道输入图像转换为三通道特征图,将标签图像与三通道特征图输入图像语义分割模型进行训练,当有缺陷的晶圆图像输入训练完成的图像语义分割模型后,图像语义分割模型进行推理,并输出晶圆的缺陷定位与分类结果,根据缺陷定位与分类结果,对晶圆进行缺陷评估并生成缺陷报告。该分类系统将晶圆图像与缺陷掩膜在通道方向拼接,所有缺陷区域通过一次分割推理就可以全部实现分类,不仅优化了图像分割精度,还提高了处理效率,显著提升了晶圆缺陷分类系统的性能和适用性。
技术关键词
图像语义分割模型 缺陷分类方法 掩膜 缺陷分类系统 通道 图像转换模块 像素 标签 模型训练模块 缺陷分类技术 缺陷类别 图像分割精度 图像拼接 解码器 报告 编码器 分辨率
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