摘要
本发明公开了一种氧化镓微观缺陷电学特性调节方法,涉及半导体材料制备技术领域,包括,同步采集氧化镓的原始图像数据集,并获取量子修正系数;采集制作氧化镓的工艺参数,结合量子修正系数构建强化学习状态向量,并通过预训练的TD3算法网络,生成工艺控制指令和状态‑动作对;根据工艺控制指令进行工艺参数调整,并使用调整后的工艺参数制作氧化镓;采用脉冲模式测量氧化镓表面的电阻率,结合霍尔效应测试计算载流子浓度和迁移率,同时测量击穿电压和漏电流密度,并计算迁移率变化率和漏电流波动系数,根据奖励函数计算奖励值。本发明提高了氧化镓在极端工况下的电学性能一致性与稳定性。
技术关键词
特性调节方法
氧化镓
原始图像数据
生成工艺
参数
工艺仿真
差分算法
缓存管理策略
网络
设备控制
氧空位
四探针法
电压
效应
生成设备
半导体材料
密度
脉冲
电流