一种接触式光刻机清洗设备

本发明公开了一种接触式光刻机清洗设备，涉及半导体芯片技术领域，包括清洗架、超声清洗组件、传动组件和回收组件，所述清洗架顶部的前表面设置PLC控制器。本发明使用时，拧动收紧螺栓，带动限位伸缩杆转动并收缩，进一步带动转杆、转动环和两个弧形收紧板转动，对两个收紧块产生相对的拉力，通过两个收紧块带动两个收紧杆相对移动进一步带动两个调节框相对移动，通过橡胶钉将光刻板夹持固定住，然后将夹紧架外表面的插杆插入插孔内部。在调节组件的作用下，设置可以调节宽度距离的调节框，可以对不同厚度的光刻板进行柔性夹持固定，提高其牢固性和稳定性。