一种高速防串扰集成芯片及其制作方法

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一种高速防串扰集成芯片及其制作方法
申请号:CN202510929207
申请日期:2025-07-07
公开号:CN120414265B
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体开发技术领域,具体涉及一种高速防串扰集成芯片及其制作方法,在衬底上生长底层结构、波导层及光栅结构,在光栅结构表面并列生长激光器量子阱结构和调制器的量子阱结构,刻蚀掉调制器区和激光器区的两侧边缘部分,构造出波导台阶,并在波导台阶两侧填充生长电流阻挡层,在波导台阶顶部生长P型欧姆接触层,再次刻蚀调制器和激光器的两侧边缘部分直至暴露底层结构表面,形成芯片波导;分别制作激光器和调制器的电极;并通过减薄、解离形成Bar条,端面镀膜完成芯片制备。通过将激光器光栅制作在量子阱层的下方,设置沟槽将激光器和调制器断开,降低激光器的阈值电流,提高激光器的输出功率,避免激光器和调制器之间电信号串扰。
技术关键词
调制器 量子阱结构 波导结构 集成芯片 欧姆接触层 电流阻挡层 间隔层 腐蚀阻挡层 光栅结构 台阶 端面构造 表面制作光栅 量子阱层 激光器光栅 电极 制作方法制作
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