一种高频石英晶体谐振器的低损伤双面离子束刻蚀方法

本发明涉及石英晶体刻蚀技术领域，公开了一种高频石英晶体谐振器的低损伤双面离子束刻蚀方法，包括：基于实时反馈调控机制，实现对高频石英晶体谐振器刻蚀过程的精准控制。通过在真空腔室中启动上下对称离子源，形成双面刻蚀场，确保晶片双面刻蚀均衡。系统实时获取晶片厚度和工作谐振频率，并与预设频率比对得到频率偏移量。若偏移量超过阈值，则根据偏移幅度确定能量与气体修正因子，动态调整离子束能量与气体比例，实现刻蚀强度与损伤控制的联动优化；若偏移量低于阈值，则中止刻蚀。本发明通过嵌入式实时感知与参数联动优化，实现了刻蚀过程从“定参数控制”向“自适应反馈控制”的转变，提升了工艺过程的智能化与精准性。