一种掩模版的图形校正方法及校正系统

本发明提供了一种掩模版的图形校正方法及校正系统，方法包括以下步骤：设置多个主图形和多个辅助图形，收集主图形和辅助图形光刻后的晶圆数据；在掩模版上搜寻与辅助图形具有相同特征尺寸的主图形，作为参照图形；获取参照图形从掩模版上被转印到晶圆上的缩放比例，按照缩放比例和掩模版上辅助图形的尺寸信息，获取辅助图形被转印到晶圆上的虚拟尺寸数据；以及将虚拟尺寸数据和晶圆数据作为光学邻近校正模型的建模参数，迭代建立光学邻近校正模型，直到校正误差小于阈值。本发明提供了一种掩模版的图形校正方法及校正系统，能够提升光刻的图形转印准确性，从而提升半导体制造良率。