一种芯片缺陷样本生成方法及设备

本申请涉及半导体工业质检技术领域，提供一种芯片缺陷样本生成方法及设备，用于提高缺陷生成的合理性和精细度。该方法将正常芯片图像中分割出的各个区域进行标记，并将每个区域标识与相应区域的第一空间信息进行关联，以为后区域内生成缺陷时提供空间约束，在缺陷生成过程中，基于所要生成缺陷的区域对应的掩码图像，强制相应区域内进行缺陷生成，使得缺陷与芯片结构相符合，提高缺陷的合理性，同时，通过缺陷量化参数和缺陷表面描述在相应区域内生成量化的精细缺陷，实现缺陷大小的控制，以便提高后续缺陷检测的准确性。