一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉

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一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉
申请号:CN202510978534
申请日期:2025-07-16
公开号:CN120637290A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明涉及封装焊接技术领域,提供一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉。导流罩设置在真空焊炉的内部,匀风板设置在真空焊炉的上腔体内部,上红外加热管设置在匀风板的上方,上红外加热管的上方设置至少一个风扇,风扇、匀风板和上红外加热管设置在导流罩的内部;设置匀风板与上红外加热管间距为第一间距L1;设置匀风板与加热板间距为第二间距L2。提高了加热板的温度均匀性。
技术关键词
均匀性方法 红外加热管 芯片封装 风扇 封装焊接技术 间距 导流 真空腔体 侧部
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