一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉
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一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉
申请号:
CN202510978534
申请日期:
2025-07-16
公开号:
CN120637290A
公开日期:
2025-09-12
类型:
发明专利
摘要
本发明涉及封装焊接技术领域,提供一种提高加热板温度均匀性方法及用于芯片封装真空焊炉。导流罩设置在真空焊炉的内部,匀风板设置在真空焊炉的上腔体内部,上红外加热管设置在匀风板的上方,上红外加热管的上方设置至少一个风扇,风扇、匀风板和上红外加热管设置在导流罩的内部;设置匀风板与上红外加热管间距为第一间距L1;设置匀风板与加热板间距为第二间距L2。提高了加热板的温度均匀性。
技术关键词
均匀性方法
红外加热管
芯片封装
风扇
封装焊接技术
间距
导流
真空腔体
侧部
沪ICP备2023015588号