一种基于自监督特征约束的小样本晶圆缺陷分类方法、系统、设备、介质、程序产品

本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种基于自监督特征约束的小样本晶圆缺陷分类方法、系统、设备、介质、程序产品，其方法包括：将晶圆数据集中的图像划分为已知缺陷类别和新缺陷类别，构建基于自监督特征约束的小样本晶圆缺陷分类模型，将已知缺陷类别输入到模型中进行训练，选择最优模型，将新缺陷类别输入到最优模型进行晶圆缺陷分类，得到分类结果；系统、设备及介质用于实现其方法；程序产品包含该方法的计算机程序；本发明提高了晶圆缺陷识别的准确率，为网络模型提供了更多的缺陷特征表征。