一种射频磁控溅射方法及装置

本发明公开了一种射频磁控溅射方法及装置，其涉及磁控溅射技术领域，在射频磁控溅射装置中包括气体室、高压辅助模块、射频发生装置以及控制模块，通过利用高压辅助模块进行直流起辉，再切换至射频发生装置进行溅射，从而克服了纯射频溅射起辉慢的缺点，提高金属靶材溅射的启动效率。