一种用于清洗芯片的清洗液及其制备工艺

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一种用于清洗芯片的清洗液及其制备工艺
申请号:CN202511018076
申请日期:2025-07-23
公开号:CN120944629A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片清洗液技术领域,特别是涉及一种用于清洗芯片的清洗液及其制备工艺,按重量份数计包括主溶剂、复合功能助剂、多功能纳米助剂,含醛基的化合物和含氨基的化合物,主溶剂包括超纯水、氟代酯类溶剂和温度响应型相变溶剂,温度响应型相变溶剂为氟代叔丁醇衍生物,复合功能助剂包括螯合剂、表面活性剂和缓蚀剂,多功能纳米助剂为多芯层二氧化硅纳米胶囊。本发明采用上述一种用于清洗芯片的清洗液及其制备工艺,制得的清洗液具有优异的清洗效果,能够有效去除芯片表面的各种污染物,同时对芯片表面具有良好的缓蚀作用,且稳定性好,储存和使用方便。
技术关键词
温度响应型 连续流微通道反应器 纳米助剂 酯类溶剂 功能助剂 纳米胶囊 缓蚀剂 表面活性剂 螯合剂 芯片 二氧化硅 超纯水 超临界反应釜 多芯 清洗液技术 叔丁醇 谷氨酸二乙酸 混合液 氨基
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