一种超高真空双面镀膜立方光学腔的结构设计与优化方法

本发明公开了一种超高真空双面镀膜立方光学腔的结构设计与优化方法，涉及超高真空双面镀膜立方光学腔技术领域，本发明通过结构‑算法‑工艺三重协同设计，显著改善超高真空双面镀膜立方光学腔的可靠性：采用双级缓冲层，纳米多孔镀膜和波纹管物理吸收压力冲击，降低瞬变幅度；采用智能算法实时识别三类扰动模式并触发针对性补偿，突破传统PID的响应延迟瓶颈；针对膜层参数提供精准控制，压力补偿因子动态修正溅射参数，抵消真空波动导致的膜料离化率异常；倒角过渡层与梯度设计消除棱角电场畸变，保障双面膜层光学对称性。