一种铟阵列内单铟球去除方法及系统

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一种铟阵列内单铟球去除方法及系统
申请号:CN202511053226
申请日期:2025-07-30
公开号:CN120857658A
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本发明属于半导体技术领域,提供了一种铟阵列内单铟球去除方法及系统,方法包括:模糊定位、高度数据测量、最终电路厚度数据计算、原始读出电路固定、十字叉丝对齐、下降高度信息计算、抽真空及加热、钨铂合金冷针穿刺、目标异常铟球剔除以及冷却及加压;本发明通过定位、加热、冷抽取的方式将读出电路阵列内单个铟球去除,避免了读出电路报废、光敏层裂开情况的发生,提高了读出电路的利用率和大面阵器件的成品率,降低了成本。
技术关键词
碳化硅基板 读出电路 夹具平台 激光共聚焦显微镜 十字叉丝 防静电组件 真空腔 数据 聚焦设备 机械臂 合金 阵列 接触式测厚仪 10倍物镜 步进电机 金相显微镜 减速器 镜头 加热
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