一种面向半导体缺陷检测的边界框分割方法、设备、介质

本发明公开了一种面向半导体缺陷检测的边界框分割方法、设备、介质，包括：获取半导体缺陷图像，对半导体缺陷图像中的缺陷位置和类型进行边界框标签标注；构建联合损失函数，基于标注后的半导体缺陷图像训练半导体缺陷分割模型；其中，所述联合损失函数为边界引导先验约束损失、关联语义校准损失、交叉熵损失的加权和，所述边界引导先验约束损失为边界对齐损失、像素对相似性挖掘损失的加权和，所述关联语义校准损失为局部关联语义校准损失、全局关联语义校准损失的加权和；将待检测的半导体图像输入至训练好的半导体缺陷分割模型中，得到半导体缺陷分割结果。