一种基于先验峰位分布的双模态拉曼光谱生成系统

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正文
推荐专利
一种基于先验峰位分布的双模态拉曼光谱生成系统
申请号:CN202511132561
申请日期:2025-08-13
公开号:CN120927648A
公开日期:2025-11-11
类型:发明专利
摘要
本发明属于拉曼光谱领域,尤其涉及一种基于先验峰位分布的双模态拉曼光谱生成系统,在该系统中,通过先验峰位分布模块使得在光谱生成过程初期即可获取不同纯净物混合的全面峰位特征,能够充分利用光谱峰位的物理序列规律,显著提升峰位预测的可靠性;峰位后处理模块采用全局优化策略,对序列中所有位置的点均进行概率评估和置信度筛选,确保全面覆盖且最小化遗漏风险,本发明解决了拉曼光谱在传统方法和深度学习方法自动化分析中遇到的数据稀缺的处理难题,提供了可靠的模拟数据替代方案。
技术关键词
生成系统 后处理模块 数据 滑动窗口 切片 移位技术 深度学习方法 混合模块 搜索算法 序列 分段 样本 索引 波形 策略 机制 噪声 风险
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