半导体器件和芯片

AITNT
正文
推荐专利
半导体器件和芯片
申请号:CN202511138188
申请日期:2025-08-13
公开号:CN120957453A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本公开提供一种半导体器件和芯片,涉及半导体技术领域,用于提升半导体器件的栅极可靠性;该半导体器件包括衬底、沟道层、势垒层、帽层、栅极、源极、漏极和调制层;沟道层和势垒层沿远离衬底的方向层叠设于衬底上;帽层设于势垒层远离衬底的一侧;帽层中掺杂有第一受主;栅极设于帽层远离衬底的一侧;源极和漏极分别设于帽层沿第一方向的两侧;调制层至少设于栅极与帽层之间;调制层中掺杂有第一受主,且调制层中的第一受主的浓度低于帽层中第一受主的浓度;调制层的材料与势垒层的材料均包括铝基氮化物,且调制层中铝的摩尔百分比,小于或者等于,势垒层中铝的摩尔百分比。上述半导体器件应用于芯片中。
技术关键词
半导体器件 衬底 势垒层 栅极 芯片 层叠 间距
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号