基于多工艺协同的PEEK材料复合抛光方法及系统

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基于多工艺协同的PEEK材料复合抛光方法及系统
申请号:CN202511155722
申请日期:2025-08-18
公开号:CN120901768A
公开日期:2025-11-07
类型:发明专利
摘要
本发明涉及材料抛光技术领域,公开了一种基于多工艺协同的PEEK材料复合抛光方法及系统,该方法包括:对PEEK材料进行表面检测,得到结晶度梯度分布信息;根据所述结晶度梯度分布信息对结晶区域和非晶区域分别进行工艺参数计算,得到抛光工艺参数组合;将所述抛光工艺参数组合输入多工艺协同复合抛光设备,对所述PEEK材料进行梯度界面强化抛光,得到界面强化抛光半成品;对所述界面强化抛光半成品进行工艺参数动态调节,得到界面强化抛光成品,本发明实现了对PEEK材料结晶区域和非晶区域的精准划分和差异化工艺参数计算,提高了PEEK材料复合抛光的精度。
技术关键词
复合抛光方法 PEEK材料 工艺参数动态 抛光工艺 数据 界面特征 半成品 抛光设备 遗传算法 化学抛光 取向 机械抛光 材料抛光技术 X射线光电子能谱 结晶 偏差 分子
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