基于高纯铯的光电阴极铯膜大面积均匀分子束蒸发沉积方法

本发明涉及光电阴极制造技术领域，提供基于高纯铯的光电阴极铯膜大面积均匀分子束蒸发沉积方法，采用高纯铯单质铯源并配合超高真空建立与维持技术，实现铯源长效重复使用；采用多温区梯度蒸发设计结合自适应PID算法与热耦合补偿机制，实现跨区域温度协同控制；通过热力学‑流体力学双模沉积控制策略，根据沉积速率动态切换模式，高速阶段抑制热惯性扰动，低速阶段修正粘滞阻力，保障束流密度稳定性；设计了发生器及串联的铯源室、蒸发器和喷管机构，形成连续稳定的分子束流沉积；本发明攻克了传统工艺膜层均匀性差、速率失稳及终点误判难题，可实现大面积或单次多基片的铯膜沉积，达到工业级稳定性、实验室级精度与量产级效率。