光刻胶旋涂工艺仿真方法、装置、计算机设备和存储介质

本申请涉及一种光刻胶旋涂工艺仿真方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：基于目标晶圆的参数信息、光刻胶注入口的位置信息和光刻胶注入口的角度，建立扇形仿真网格；采用二维自适应网格加密算法对所述扇形仿真网格进行网格划分，得到目标仿真网格；构建两相流体数学模型；两相流体包括空气相和光刻胶相；基于目标仿真网格的边界条件、光刻胶旋涂工艺参数、空气流体属性和光刻胶流体属性对两相流体数学模型进行迭代求解，确定所述目标晶圆的光刻胶旋涂工艺仿真图像。能够对光刻胶旋涂工艺中两相流体的两相交界处进行准确加密，严格遵循二维模型的几何约束，从而获取到可靠的光刻胶旋涂工艺仿真结果。