一种双层圆柱型屏蔽系统及优化方法
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一种双层圆柱型屏蔽系统及优化方法
申请号:
CN202511190418
申请日期:
2025-08-25
公开号:
CN120936011A
公开日期:
2025-11-11
类型:
发明专利
摘要
本申请公开了一种双层圆柱型屏蔽系统及优化方法,涉及静磁屏蔽技术领域。所述双层圆柱型屏蔽系统呈圆柱型的包覆在屏蔽对象外侧,所述双层圆柱型屏蔽系统从内到外依次包括:第一屏蔽层、间隙层和第二屏蔽层。本申请设置了双层屏蔽结构,通过逐层屏蔽残余磁通量,减少漏磁现象,提高了屏蔽效果。
技术关键词
屏蔽系统
屏蔽层
屏蔽效能
屏蔽材料
对象
求解算法
双层屏蔽结构
参数
静磁场
漏磁现象
屏蔽技术
数据
沪ICP备2023015588号