一种以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜

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正文
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一种以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜
申请号:CN202511206483
申请日期:2025-08-27
公开号:CN121035079A
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及钻石面碳化硅技术领域,且公开了一种以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜,介面处硅与钻石原子的比率由100%逐渐减小至约0%,原子比率调整的沉积方法乃用微波等离子体内完成,其硅碳比乃由ALD控制的硅烷比甲烷混入主体的氢气而逐层沉积,钻石膜可外延加厚,钻石膜可为多晶或单晶,钻石膜可用为半导体的芯片或其散热片,如上的钻石膜可用为生长培育钻石的子晶;本发明所述的以硅晶圆的原子晶格为模板而在其上生长的钻石膜,以高硬度材料的共价键与热点区的原子共振,这样就可以使其振动频率大幅度下降,因而可避免热点逐渐破坏了芯片的功能。
技术关键词
钻石膜 微波等离子体 培育钻石 模板 沉积方法 碳化硅技术 高硬度材料 比率 散热片 半导体 单晶 硅烷 芯片 外延 甲烷 氢气 共价键 热点 频率
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