摘要
本申请公开一种双向离轴对位偏差量测方法、系统及离轴标记。通过调整成像装置的光轴与待测样品在X轴或Y轴的相对位移,由成像装置拍摄得到目标标记图像、第一参考标记图像和第二参考标记图像;目标标记位于待测样品的目标对位单元。基于目标标记图像和第一参考标记图像,计算目标对位单元在待测样品的X轴对位偏差;基于目标标记图像和第二参考标记图像,计算目标对位单元在待测样品的Y轴对位偏差。本申请技术方案不需要改造硬件平台,降低离轴对位偏差量测成本,具有更高的量测精度。并且,该技术方案的实施,不影响硬件平台实现常规的同轴对位偏差量测,具有更强的场景适用性。
技术关键词
标记
成像装置
图像
偏差
量测方法
成像组件
探测器
硬件平台
光刻工艺
形态
载物台
量测系统
晶圆
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