一种基于扩散策略的光学邻近效应修正方法及系统

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一种基于扩散策略的光学邻近效应修正方法及系统
申请号:CN202511228924
申请日期:2025-08-29
公开号:CN120997343A
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于扩散策略的光学邻近效应修正方法及系统,所述方法包括:对预先采集到的多模态的样本数据进行预处理,将其转换为大模型能够识别的词向量,所述样本数据包括多模态条件数据和OPC修正的掩模图案,所述多模态条件数据包括图形格式的初始掩模图案、光学仿真得到的初始成像误差分布图、文本格式的工艺参数和目标设计规则约束,依次将经过预处理的多模态样本数据输入到扩散模型中进行迭代训练;将当前的多模态条件数据输入至训练后的扩散模型中,得到OPC修正的掩模图案。采用本发明的技术方法,可提升光刻图案的精度和工艺鲁棒性。
技术关键词
光学邻近效应修正方法 掩模图案 光学邻近效应修正系统 成像误差 策略 多模态 数据 样本 光刻图案 仿真工具 格式 金字塔 多尺度 鲁棒性 参数 注意力 编码 模块
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