一种镀膜光学元件激光损伤主导模式判定与阈值预估方法

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一种镀膜光学元件激光损伤主导模式判定与阈值预估方法
申请号:CN202511249808
申请日期:2025-09-03
公开号:CN120761407B
公开日期:2025-11-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种镀膜光学元件激光损伤主导模式判定与阈值预估方法,属于激光光学元件损伤评估技术领域。本发明的实现方法为:基于传输矩阵法或时域有限差分法计算薄膜光场分布;结合有限元分析预测薄膜与基底的温度及应力场;对比损伤阈值判定主导模式;并通过实验验证模型准确性。本发明通过分别构建薄膜电场‑热力耦合模型与基底热力分析模型,量化两者损伤贡献,结合小样本实验验证,旨在解决镀膜光学元件薄膜与基底损伤竞争机制复杂、损伤主导模式区分困难,以及传统实验方法效率低、成本高的问题。
技术关键词
镀膜光学元件 薄膜损伤阈值 基底 膜系结构 薄膜多层结构 模式 激光光学元件 热力耦合模型 有限元分析软件 应力场 参数 电场 显微镜 镀膜材料 反射率 能量计
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